2025-02-28
A 窒化シリコン(SI3N4)基質優れた熱、機械的、電気的特性により、電子機器および半導体アプリケーションで広く使用されているセラミック材料です。高強度、耐久性、並外れた熱伝導率で知られているため、厳しい環境に理想的な選択肢となっています。
窒化シリコン基質高温焼結プロセスを通じて生成されます。窒化シリコンパウダーを圧縮し、加熱して密集した強力なセラミック材料を形成します。結果として得られる基質は、電子アプリケーションの厳格な寸法要件を満たすために正確に切断および研磨されます。
窒化シリコン基板はいくつかの重要な利点を提供します。
- 高い熱伝導率:効果的に熱を放散し、敏感な電子部品を保護します。
- 優れた機械的強度:高い圧力と機械的ストレスに耐えます。
- 電気断熱材:電子回路に優れた電気分離を提供します。
- 耐薬品性:耐性耐性と酸化に耐性があり、過酷な環境での耐久性が確保されます。
窒化シリコン基質は、以下を含むさまざまな業界で一般的に使用されています。
- 電子機器:電力モジュールの熱拡散器と絶縁体として。
- 半導体:効率的な熱散逸のためのチップキャリアで。
- 自動車:電気自動車の電子モジュール用。
- 航空宇宙:熱的および機械的安定性を必要とする高性能システムで。
aを選択するとき窒化シリコン基質、次の要因を考慮してください。
- 熱伝導率:アプリケーションに最適な熱散逸を伴う基板を選択します。
- 厚さとサイズ:デザインの次元のニーズを満たしていることを確認してください。
- 表面仕上げ:特定の電子アプリケーションには、磨かれた表面が不可欠です。
- 信頼性:業界で実証済みのパフォーマンスと耐久性を備えた基質を選択します。
窒化シリコン基質の寿命と性能を確保するには:
- 亀裂や損傷を避けるように注意してそれらを処理します。
- 汚染を防ぐために、清潔で乾燥した環境にそれらを保管してください。
- 特にストレスの多い用途では、摩耗や損傷の兆候を定期的に検査します。
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